CVD法による多孔質混合誘電性基板上へのGd添加CeO2_2電解質薄膜合成とその特性
CVD法による多孔質混合誘電性基板上へのGd添加CeO2_2電解質薄膜合成とその特性
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多孔混合介质基底上CVD法合成Gd掺杂CeO2_2电解质薄膜及其性能
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
脇谷尚樹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
門馬征史;三田健介;大島直也;田中宏樹;塩田忠;Cross Jeffrey;櫻井修;篠崎和夫;脇谷尚樹
