Smoothing of interfaces in ultrathin Mo/Si multilayers by ion bombardment
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DOI：
10.1016/0040-6090(93)90586-e
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发表时间：
1993-05
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
A. Kloidt;H. Stock;U. Kleineberg;T. Döhring;M. Pröpper;B. Schmiedeskamp;U. Heinzmann
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Kloidt;H. Stock;U. Kleineberg;T. Döhring;M. Pröpper;B. Schmiedeskamp;U. Heinzmann
