An investigation of the pulsed plasma for deposition of thin film materials
An investigation of the pulsed plasma for deposition of thin film materials
复制标题
脉冲等离子体沉积薄膜材料的研究
DOI：
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发表时间：
1998
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Tan
中科院分区：
文献类型：
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作者：
P. Yan;P. Hui;Weiguang Zhu;H. Tan
