K.Naito: "AC PLASMA-ASSISTED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF CUBIC SILLCON CARBIDE FILM ON SILICON SUBSTRATE." Proceedings of the 10th Symposium on PLASMA PROCESSING. 10. 471-474 (1993)
K.Naito: "AC PLASMA-ASSISTED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF CUBIC SILLCON CARBIDE FILM ON SILICON SUBSTRATE." Proceedings of the 10th Symposium on PLASMA PROCESSING. 10. 471-474 (1993)
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K.Naito：“硅基底上立方碳化硅薄膜的交流等离子体辅助化学气相沉积。”
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