AuとGeの同時スパッタによるGe薄膜の結晶化(Ⅲ)
AuとGeの同時スパッタによるGe薄膜の結晶化(Ⅲ)
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Au和Ge同时溅射Ge薄膜的晶化(Ⅲ)
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发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
弓野健太
中科院分区:
文献类型:
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作者:
高鳥毛怜;神子公男;弓野健太
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影响因子:
51.1
作者:
Mitsudomi, Tetsuya;Morita, Satoshi;Fukuoka, Masahiro
通讯作者:
Fukuoka, Masahiro
影响因子:
50.5
作者:
Goto, K.;Satouchi, M.;Todo, T.
通讯作者:
Todo, T.
影响因子:
45.3
作者:
Gandara, David R.;Kawaguchi, Tomoya;Mack, Philip C.
通讯作者:
Mack, Philip C.
影响因子:
5.3
作者:
R. Perng;Chih‐Hsin Yang;Yuh;G. Chang;Meng;R. Hsieh;N. Chu;R. Lai;W. Su;C. Tsao;T. Hsia;Hao‐Cheng Chen;Chih;Ming;Jui;M. Ho;C. Chung;Chong;Wen‐Cheng Chang;H. Kuo;Chih;Zhong‐Zhe Lin;W. Kao
通讯作者:
W. Kao
影响因子:
1.9
作者:
BROOKMEYER, R;CROWLEY, J
通讯作者:
CROWLEY, J