スパッタリング・イオン照射複合プロセスを利用したTiNi形状記憶合金薄膜の低温合成
スパッタリング・イオン照射複合プロセスを利用したTiNi形状記憶合金薄膜の低温合成
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溅射与离子辐照联合工艺低温合成TiNi形状记忆合金薄膜
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
岸陽一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N. Ikenaga;Y. Kishi;Z. Yajima;N. Sakudo;N. Ikenaga;Y. Kishi;Y. Kishi;N. Sakudo;N. Sakudo;N. Ikenaga;H. Yasui;N.Ikenaga;N.Sakudo;岸陽一;岸陽一
