The Impact of Post Deposition NH_3-Anneal on La Oxide Films Formed by MOCVD Using La(DPM)3
The Impact of Post Deposition NH_3-Anneal on La Oxide Films Formed by MOCVD Using La(DPM)3
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沉积后NH_3退火对La(DPM)3 MOCVD形成La氧化膜的影响
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
R. Yougauchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R;Yougauchi;K. Makihara;大田 晃生;門島 勝;三浦 真嗣;奥山 一樹;大田 晃生;大田 晃生;大田 晃生;A. Ohta;Akio Ohta;A. Ohta;S. Miyazaki;三浦 真嗣;吉永 博路;H. Yoshinaga;要垣内 亮;R. Yougauchi
