Relationship Between Passivation Property and Band Alignment on O3-Based ALD AlOx Surface Passivated Crystalline Si for Photovoltaic Applications
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光伏应用 O3 基 ALD AlOx 表面钝化晶硅的钝化性能与能带排列的关系
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and A. Ogura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
N. Ikeno;Y. Yamashita;H. Oji;T. Katsumata;S. Miki;Y. Miki;S. Kitano;K. Arafune;H. Yoshida; S. Satoh;T. Chikyow;I. Hirosawa;and A. Ogura
