シクロデキストリン誘導体による[1]ロタキサン形成における末端基の効果およびその形成メカニズム
シクロデキストリン誘導体による[1]ロタキサン形成における末端基の効果およびその形成メカニズム
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端基对环糊精衍生物形成[1]轮烷的影响及其形成机制
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
宮脇敦久
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山田啓介;葛西伸哉;仲谷栄伸;小林研介;小野輝男;山田啓介;山田啓介;山田啓介;山田啓介;山田啓介;山田啓介;山田啓介;山田啓介;Atsuhisa Miyawaki;宮脇敦久
