Y.Honda et al: "Atomic-Order Layer Role-Share Etching of Silicon Nitride Using an ECR Plasma" Proceedings of the 12th International Symposium on Plasma Processing. PV98-4. 94-100 (1998)
Y.Honda et al: "Atomic-Order Layer Role-Share Etching of Silicon Nitride Using an ECR Plasma" Proceedings of the 12th International Symposium on Plasma Processing. PV98-4. 94-100 (1998)
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Y.Honda 等人：“使用 ECR 等离子体对氮化硅进行原子级层角色共享蚀刻”第 12 届国际等离子体处理研讨会论文集。
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