T.Hattori, M.Fujimura, T.Yagi and M.Ohashi: "Periodic changes in surface microroughness with progress of thermal oxidation of silicon" Appl.Surf.Sci.123/124. 87-90 (1998)
T.Hattori, M.Fujimura, T.Yagi and M.Ohashi: "Periodic changes in surface microroughness with progress of thermal oxidation of silicon" Appl.Surf.Sci.123/124. 87-90 (1998)
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T.Hattori、M.Fujimura、T.Yagi 和 M.Ohashi：“随着硅热氧化的进展，表面微观粗糙度发生周期性变化”Appl.Surf.Sci.123/124。
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