R.Nozawa et.al: "Substrate DC bias effects on low temperature polycrystalline silicon formation in electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition" J. Appl. Phys.79・6. 8035-8039 (1997)
R.Nozawa et.al: "Substrate DC bias effects on low temperature polycrystalline silicon formation in electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition" J. Appl. Phys.79・6. 8035-8039 (1997)
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R. Nozawa 等人：“电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积中的基板直流偏压对低温多晶硅形成的影响”J. Appl.79・6（1997）。
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