M. Shimozunra, M. Yoshino, H. Date and H. Tagashira: "Deposition of SiC Films on a Heated Substrate by 50HZ Plasma CVD Using Hexamethyldisilane + H2"Proceedings of 14th Int Symp. On Plasma Chemistry. Vol.14III. 1415-1420 (1999)
M. Shimozunra, M. Yoshino, H. Date and H. Tagashira: "Deposition of SiC Films on a Heated Substrate by 50HZ Plasma CVD Using Hexamethyldisilane + H2"Proceedings of 14th Int Symp. On Plasma Chemistry. Vol.14III. 1415-1420 (1999)
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M. Shimozunra、M. Yoshino、H. Date 和 H. Tagashira：“使用六甲基二硅烷 H2 通过 50HZ 等离子体 CVD 在加热基板上沉积 SiC 薄膜”第 14 届 Int Symp 论文集。
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