反応性スパッタ法により773Kで作製されたAIN膜の結晶品質に及ぼす窒素流量比の影響
反応性スパッタ法により773Kで作製されたAIN膜の結晶品質に及ぼす窒素流量比の影響
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氮气流量对773K反应溅射AlN薄膜晶体质量的影响
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
熊田智行
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Tabuchi;A.Hirano;T.Yamada;H.Ohmi;H.Kakiuchi;K.Yasutake;熊田智行
