シリコン基板上に作製したビスマス基圧電体膜の特性評価

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硅衬底上铋基压电薄膜的特性评估

DOI:
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发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
及川貴弘,安井伸太郎,真鍋直人,小林健,渡邉隆之,薮田久人,三浦 薫,舟窪 浩
及川貴弘,安井伸太郎,真鍋直人,小林健,渡邉隆之,薮田久人,三浦 薫,舟窪 浩
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
T. Oikawa;S. Yasui;T. Watanabe;H. Yabuta;T. Fukui;and H. Funakubo;Hiroki Gima and Tsuyoshi Yoshitake;及川貴弘,安井伸太郎,真鍋直人,小林健,渡邉隆之,薮田久人,三浦 薫,舟窪 浩

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