Impact of (111)-oriented TiN conductive layers for the growth of vanadium dioxide films and the effect of grain boundary diffusions
Impact of (111)-oriented TiN conductive layers for the growth of vanadium dioxide films and the effect of grain boundary diffusions
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(111)取向TiN导电层对二氧化钒薄膜生长的影响及晶界扩散的影响
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and Kunio Okimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
omohiro Aoto;Kenta Sato;Md. Suruz Mian;and Kunio Okimura
