絶縁膜上におけるSiGe成長とデバイス応用
絶縁膜上におけるSiGe成長とデバイス応用
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SiGe 绝缘膜生长及器件应用
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
都甲薫
中科院分区：
文献类型：
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作者：
佐道泰造;都甲薫
