Nanoscale evaluation of Al2O3/diamond MOS interfaces using time-resolved scanning nonlinear dielectric microscopy
Nanoscale evaluation of Al2O3/diamond MOS interfaces using time-resolved scanning nonlinear dielectric microscopy
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使用时间分辨扫描非线性介电显微镜对 Al2O3/金刚石 MOS 界面进行纳米级评估
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. CHO
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. OGATA;K. YAMASUE;X. ZHANG;T. MATSUMOTO;N. TOKUDA;Y. CHO
