シリコンナノワイヤアレイへのパッシベーション膜の作製と評価
シリコンナノワイヤアレイへのパッシベーション膜の作製と評価
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硅纳米线阵列钝化膜的制备与评价
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
廣田正樹
中科院分区：
文献类型：
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作者：
加藤慎也;渡邊裕也;黒川康良;山田明,太田最実;丹羽勇介;廣田正樹
