Defect generation during plasma treatment of semiconductors
Defect generation during plasma treatment of semiconductors
复制标题
半导体等离子处理过程中缺陷的产生
DOI：
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发表时间：
1991
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. Weber
中科院分区：
文献类型：
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作者：
J. Weber
