Properties of ZnO Film Deposited by Plasma-Assisted Mist Chemical Vapor Deposition
Properties of ZnO Film Deposited by Plasma-Assisted Mist Chemical Vapor Deposition
复制标题
等离子体辅助雾化化学气相沉积氧化锌薄膜的性能
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yuichi Setsuhara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kosuke Takenaka;Yuichi Setsuhara
