Y.Maeda,H.Suzuki,T.Sakoh,K.Morita,M.Morita,and T.Ohmi: "High-Selectivity and High Deposition Rate Tungsten CVD Freed from Chamber Cleaning" Journal of Electrochemical Society. 141. 566-571 (1994)
Y.Maeda,H.Suzuki,T.Sakoh,K.Morita,M.Morita,and T.Ohmi: "High-Selectivity and High Deposition Rate Tungsten CVD Freed from Chamber Cleaning" Journal of Electrochemical Society. 141. 566-571 (1994)
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Y.Maeda、H.Suzuki、T.Sakoh、K.Morita、M.Morita 和 T.Ohmi：“高选择性和高沉积速率钨 CVD 无需清洁室”电化学学会杂志。
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