Formation of microcrystalline Silicon and SiNx filmisby electron-beam-induced-chemical vapor deposition at ultra low temperature.
Formation of microcrystalline Silicon and SiNx filmisby electron-beam-induced-chemical vapor deposition at ultra low temperature.
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微晶硅和SiNx薄膜的形成是通过超低温电子束诱导化学气相沉积来实现的。
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
C.Miyata
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.Sato;M.Mitsui;J.Yamanaka;K.Nakagawa;Y.Aoki;S.Sato;C.Miyata
