SiNx膜レーザーアブレーションによる4H-SiCへの窒素ドーピングと窒素拡散機構に関する研究
SiNx膜レーザーアブレーションによる4H-SiCへの窒素ドーピングと窒素拡散機構に関する研究
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SiNx薄膜激光烧蚀4H-SiC氮掺杂及氮扩散机理研究
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
岡田 龍雄
中科院分区：
文献类型：
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作者：
小島 遼太;池上 浩;諏訪 輝;池田 晃裕;中村 大輔;浅野 種正;岡田 龍雄
