Atom optics and atom lithography

Atom optics and atom lithography
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原子光学和原子光刻

DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Journal of the National Institute of Information and Communications Technology 51
影响因子：
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通讯作者：
R.Ohmukai
R.Ohmukai
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
Takeaki Araki;Hajime Tanaka;M.Hyodo;M.Hyodo;R.Ohmukai;K.Nakayama;R.Ohmukai;大向隆三;R.Ohmukai

文献摘要

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