水素原子源付プラズマCVD法に任意電圧波形を併用したa-C:H薄膜の堆積
水素原子源付プラズマCVD法に任意電圧波形を併用したa-C:H薄膜の堆積
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氢原子源结合任意电压波形等离子体CVD法沉积a-C:H薄膜
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
白谷正治
中科院分区：
文献类型：
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作者：
古閑一憲;山木健司;方トウジュン;山下大輔;徐鉉雄;板垣奈穂;白谷正治
