Photoelastic characterization of residual strain distribution in commerical off-axis SiC substrates
Photoelastic characterization of residual strain distribution in commerical off-axis SiC substrates
复制标题
商用离轴 SiC 衬底中残余应变分布的光弹性表征
DOI：
--
复制
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
福澤理行
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yutarou Iida;Desheng Fu,;福澤理行
