赤外エバネッセント光によるSOIウエハ薄膜欠陥検出に関する研究(第3報)-S0Iウエハ表面欠陥検出実験-
赤外エバネッセント光によるSOIウエハ薄膜欠陥検出に関する研究(第3報)-S0Iウエハ表面欠陥検出実験-
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利用红外倏逝光的SOI晶圆薄膜缺陷检测研究（第三报告）-S0I晶圆表面缺陷检测实验-
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高谷裕浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
中島隆介;三好隆志;高谷裕浩
