キセノンイオンを注入したシリコンのアニールによる構造変化
キセノンイオンを注入したシリコンのアニールによる構造変化
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注入氙离子的硅退火导致结构变化
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
羽渕仁恵，藤田詩織，飯田民夫，大橋史隆，伴隆幸，久米徹二，野々村修一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Masaki Isai;Ikuta Nakamura;Yuki Hieda;Fumiya Fukazawa;and Yoichi Hoshi;羽渕仁恵，藤田詩織，飯田民夫，大橋史隆，伴隆幸，久米徹二，野々村修一
