Ha Taeho,三好隆志,高谷裕浩,高橋哲: "CMP加工によるSiウエハ酸化膜欠陥の光散乱シミュレーション"2000年度精密工学会春季大会学術講演会講演論文集. 東京. 603-603 (2000)

Ha Taeho、Takashi Miyoshi、Hirohiro Takatani、Satoshi Takahashi：“通过 CMP 处理对硅晶片氧化膜缺陷进行光散射模拟”2000 年日本精密工程学会春季会议记录，东京 603-603 (2000)。