La-DPM錯体を用いたMOCVDによるLa系酸化薄膜形成とNH3熱処理効果
La-DPM錯体を用いたMOCVDによるLa系酸化薄膜形成とNH3熱処理効果
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利用La-DPM络合物和NH3热处理效应通过MOCVD形成La基氧化物薄膜
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
要垣内亮,大田晃生,宗高勇気,村上秀樹,東清一郎,宮崎誠一
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Yougauchi;A. Ohta;Y. Munetaka;H. Murakami;S. Higashi;S. Miyazaki;要垣内亮,大田晃生,宗高勇気,村上秀樹,東清一郎,宮崎誠一
