Downscaling and low temperature deposition of ferroelectric (Al1-xScx)N thin films deposited by dual sputtering
Downscaling and low temperature deposition of ferroelectric (Al1-xScx)N thin films deposited by dual sputtering
复制标题
双溅射沉积铁电 (Al1-xScx)N 薄膜的缩小尺寸和低温沉积
DOI：
--
复制
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
and Hiroshi Funakubo
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Shinnosuke Yasuoka;Takao Shimizu;Masato Uehara;Hiroshi Yamada;Morito Akiyama;Yoshiomi Hiranaga;Yasuo Cho;and Hiroshi Funakubo
