Estimations of Plasma Parameters and BiasSputtering of Cu Films in Gas-Flow-Sputtering Operating at 1-Torr Pressure Region
Estimations of Plasma Parameters and BiasSputtering of Cu Films in Gas-Flow-Sputtering Operating at 1-Torr Pressure Region
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1 托压力区域气流溅射中铜膜的等离子体参数和偏置溅射的估计
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Saitou
中科院分区：
文献类型：
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作者：
西口浩平;他;H.Sakuma;S.Mifuji;Y.Saitou
