K.Ishii: "Effects of fluorine addition on the structure and optical properties of SiO_2 films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition" J.Appl.Phys.81・3. 1470-1474 (1997)
K.Ishii: "Effects of fluorine addition on the structure and optical properties of SiO_2 films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition" J.Appl.Phys.81・3. 1470-1474 (1997)
复制标题
K.Ishii：“氟添加对等离子体增强化学气相沉积形成的 SiO_2 薄膜的结构和光学性能的影响”J.Appl.Phys.81・3（1997）。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
