Critical Amorphization Dose and Amorphization Mechanism for Ion Implantation into Germanium
Critical Amorphization Dose and Amorphization Mechanism for Ion Implantation into Germanium
复制标题
锗离子注入的临界非晶化剂量和非晶化机理
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Osada and K. Shibahara
中科院分区：
文献类型：
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作者：
桑野、越本;他(共著);K. Osada and K. Shibahara
