Effects of feed gas composition on the properties of silica film prepared by plasma CVD
Effects of feed gas composition on the properties of silica film prepared by plasma CVD
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原料气组成对等离子体CVD制备二氧化硅薄膜性能的影响
DOI：
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Motoaki Kawase
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Erika Takeda;Toshiki Deguchi;Motoaki Kawase
