PECVD成膜装置内での粒子汚染現象に対する操作流量の影響.
PECVD成膜装置内での粒子汚染現象に対する操作流量の影響.
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操作流量对 PECVD 沉积设备中颗粒污染现象的影响。
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
林 豊
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T.KAMEYAMA;K.SUGIURA;S.KAWAI;K.IWAI;林 豊
