Fabrication of <i>L</i>1<sub>0</sub>-FeNi films by denitriding FeNiN films
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FeNiN薄膜脱氮制备<i>L</i>1<sub>0</sub>-FeNi薄膜
DOI：
10.3379/msjmag.1907r002
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发表时间：
2019
影响因子：
--
通讯作者：
K. Takanashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Ito;M. Hayashida;M. Mizuguchi;T. Suemasu;H. Yanagihara;K. Takanashi
