UV 直接照射アシストによる GaN 基板の研磨の評価第 4 報～pHと酸化剤の変化による加工特性の評価～
UV 直接照射アシストによる GaN 基板の研磨の評価第 4 報～pHと酸化剤の変化による加工特性の評価～
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利用直接紫外线照射辅助进行的 GaN 基板的研磨评价第 4 次报告～pH 值和氧化剂的变化引起的加工特性评价～
DOI：
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发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
河村昌悟 松井伸介 山本栄一 矢島利康 二宮大輔
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yorihiro Yamashita;Takahiro Kunimine;Mrai Sakai;Yoshinori Funada;Yuji Sato;and Masahiro Tsukamoto;河村昌悟 松井伸介 山本栄一 矢島利康 二宮大輔
