Effect of substrate on ZnO thin film fabrication by using an atmospheric pressure cold plasma generator
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基底对常压冷等离子体发生器制备ZnO薄膜的影响
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Mina Kim
中科院分区：
文献类型：
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作者：
W. Hang;L. Zhou;J. Shimizu;T. Yamamoto;J. Yuan;Mina Kim
