Y.Zaitsu, K.Osada and S.Matsumoto: "Effect of Si_3N_4 Films on Diffusion of Boron and Extended Defects in Silicon during Post-Implantation Annealing" Materials Science Forum. Vol.196-201. 1891-1896 (1995)
Y.Zaitsu, K.Osada and S.Matsumoto: "Effect of Si_3N_4 Films on Diffusion of Boron and Extended Defects in Silicon during Post-Implantation Annealing" Materials Science Forum. Vol.196-201. 1891-1896 (1995)
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Y.Zaitsu、K.Osada 和 S.Matsumoto：“Si_3N_4 薄膜对注入后退火过程中硼扩散和硅中扩展缺陷的影响”材料科学论坛。
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