Z.-T.Jiang, M.Aoyama, L.Asinovsky and T.Yamaguchi: "Investigation of Silicon Rich Nitride Phase-shifting Mask Material for 193nm Lithography" 3rd Intern.Symp.on 193nm Lithography(Hakodate),Digest of Abstract. 125-126 (1997)
Z.-T.Jiang, M.Aoyama, L.Asinovsky and T.Yamaguchi: "Investigation of Silicon Rich Nitride Phase-shifting Mask Material for 193nm Lithography" 3rd Intern.Symp.on 193nm Lithography(Hakodate),Digest of Abstract. 125-126 (1997)
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Z.-T.Jiang、M.Aoyama、L.Asinovsky 和 T.Yamaguchi：“193nm 光刻用富硅氮化物相移掩模材料的研究”第 3 届 193nm 光刻实习研讨会（函馆），摘要摘要。
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