Y.Horiike: ""High Rate Bias Sputtering Filling of SiO_2 Film Employing Both Continuous Wave and Time-Modulated Inductively Coupled Plasmas"" Jpn.J.Appl.Phys.35. 1474-1477 (1996)
Y.Horiike: ""High Rate Bias Sputtering Filling of SiO_2 Film Employing Both Continuous Wave and Time-Modulated Inductively Coupled Plasmas"" Jpn.J.Appl.Phys.35. 1474-1477 (1996)
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Y.Horiike：“采用连续波和时间调制感应耦合等离子体对 SiO_2 薄膜进行高速率偏置溅射填充”Jpn.J.Appl.Phys.35。
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