スパッタリング法によるB-doped BaSi2の作製と評価
スパッタリング法によるB-doped BaSi2の作製と評価
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溅射法制备硼掺杂BaSi2并评价
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
末益 崇
中科院分区：
文献类型：
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作者：
長谷部 隼;小板橋 嶺太;木戸 一輝;召田 雅実;都甲 薫;末益 崇
