High-temperature epitaxy of PtSi/Si(0 0 1)
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DOI：
10.1016/s0022-0248(96)01047-0
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发表时间：
1997-04
影响因子：
1.8
通讯作者：
K. Kavanagh;M. Reuter;R. Tromp
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Kavanagh;M. Reuter;R. Tromp
