Energy Flux onto a Substrate during ICP Assisted Sputter-Deposition

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ICP 辅助溅射沉积期间基材上的能量通量

DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
Conference Proceedings CD of 63rd Gaseous Electronics Conference & 7th International Conference on Reactive Plasmas, October 4-8, 2010, Paris, France
影响因子：
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通讯作者：
Y.Matsuda
Y.Matsuda
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
A Sunahara;T.Johzaki;H.Nagatomo;K.Mima;Y.Matsuda

文献摘要

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