Reentrant layer-by-layer growth during molecular-beam epitaxy of metal-on-metal substrates.
Reentrant layer-by-layer growth during molecular-beam epitaxy of metal-on-metal substrates.
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DOI：
10.1103/physrevlett.65.733
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发表时间：
1990-08
影响因子：
8.6
通讯作者：
R. Kunkel;B. Poelsema;L. K. Verheij;G. Comşa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Kunkel;B. Poelsema;L. K. Verheij;G. Comşa
本文报道了Pt在Pt（111）上的分子束外延过程中，发现了一个可重入的逐层生长。基于先前的场离子显微镜观察，提出了对重入行为的解释。
The discovery of a reentrant layer-by-layer growth during molecular-beam epitaxy of Pt on Pt(111) is reported. Explanations of the reentrant behavior based on previous field-ion-microscopy observations are proposed.