３次元フォトマスクを用いたマスク転写自己形成技術による光プラグの試作
３次元フォトマスクを用いたマスク転写自己形成技術による光プラグの試作
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使用 3D 光掩模的掩模转移自形成技术进行光插头的原型生产
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
三上修
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tadayuki Enomoto ;Yukinobu Soeda;Osamu Mikami;Takao Waho;三上修
