田窪健二: "光CVD法によるSiN膜の堆積機構の解析" 電子情報通信学会シリコン材料デバイス研究会技術研究報告. SDM89-139. 47-51 (1989)
田窪健二: "光CVD法によるSiN膜の堆積機構の解析" 電子情報通信学会シリコン材料デバイス研究会技術研究報告. SDM89-139. 47-51 (1989)
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Kenji Takubo：“光学CVD法沉积SiN薄膜的机理分析”电子、信息和通信工程师研究所硅材料和器件研究组的技术研究报告SDM89-139（1989）。
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