Hiroyuki Ishii: "Growth and electrical properties of atomic-layer deposited ZrO_2/ Si-nitride stack gate dielectrics"J.Appl.Phys.. 95. 536-542 (2004)
Hiroyuki Ishii: "Growth and electrical properties of atomic-layer deposited ZrO_2/ Si-nitride stack gate dielectrics"J.Appl.Phys.. 95. 536-542 (2004)
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Hiroyuki Ishii：“原子层沉积的 ZrO_2/ Si-氮化物叠层栅极电介质的生长和电性能”J.Appl.Phys.. 95. 536-542 (2004)
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